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化學氣相沉積爐
產品描述
該系統可針對硬質合金切削刀片等各類工具或零部件涂覆TiC、TiN、TiCN、α-Al2O3、 κ-Al2O3等單層及多層復合硬質化薄膜材料。CVD涂層與基體結合強度高,附著力強,均勻性好,形狀復雜的工件也可得到均勻的鍍層,薄膜厚度可達5-20μm。
設備配有雙反應腔室,經濟高效,維護成本低,安全環保,并可靈活滿足未來不斷提升的CVD工藝需求。
技術參數
工作空間(mm)
Φ500×1500(雙反應室)
料盤直徑(mm)
Φ375
有效料盤數量(pcs)
37
最高工作溫度(℃)
1050
加熱功率(KVA)
55
工藝氣體
Ar, H2, N2, HCI, CH4, H2S, CO2, CO
先驅體
TiCI4, CH3CN,AICI3
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